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[Furnace] Rapid thermal process(non O2)
  • 글쓴이 권대선
  • 작성일 2016-03-25 17:46:57
  • 조회수 507


  • 제작회사 : ULTECH
  • 모델명 : 
  • 용도 : RTA(Rapid Thermal Annealing)
  • 특징 :
    -Wafer size : 조각 ~4"
    -Substrate heater : Max. 1000℃ 
    -Ultimate pressure : ≤ 2 × 10-3Torr 
    -Process control : Manual process control 
  • 담당자 : 임준일, 이인수
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