32 |
Á¤½ÃÈ, Á¶±Ý¼®, ÀÓÁöÀº, Ȳö¼º, ÇÑ¿µ±â, ¾çöÈì, ¾çµÎ¿µ, ¿À±â¿µ Ir Àü±Ø ±âÆÇÀ» »ç¿ëÇÑ LDS-MOCVD(Liquid Delivery System-MOCVD)ÀÇ Àú¿Â ÁõÂø°ú Ư¼º¿¡ °üÇÑ ¿¬±¸ Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
31 |
ÀÓÁöÀº, Á¶±Ý¼®, Á¤½ÃÈ, Ȳö¼º, ±è½ÂÇö sol-gel¹ýÀ» ÀÌ¿ëÇÑ Pb(Zr0.4, Ti0.6)O3 ¹Ú¸·ÀÇ ÇϺΠPt Àü±Ø°ú »óºÎ PtOx Àü±Ø¿¡ µû¸¥ ÇÇ·ÎÇö»ó Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
30 |
Á¶±Ý¼®, ÀÓÁöÀº, Á¤½ÃÈ, Ȳö¼º, ±è½ÂÇö heat-treatment induced ferroelectric fatigue of Pt/Sr1-xBi2+yTa2O9/Pt thin-film capacitors Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ |
|
29 |
Chang Young Koo, S-H. Kim, D-Y. Park, D-S Lee, H-J. Woo, J.Yang, J.Ha, C.S. Hwang Low temperature crystallized PZT thin films for high density FeRAM device
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
28 |
±è¼º±Ù, ±Ç¿À¼º, Ȳö¼º H2O ÇöóÁ¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ´Ü¿øÀÚÁõÂø¹ý¿¡ ÀÇÇÑ STO ¹Ú¸·ÀÇ ÁõÂø
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
27 |
±èÁöÈÆ, Ȳö¼º RF magneton sputtering ¹æ¹ýÀ¸·Î Pt¿Í Ru ±âÆÇ À§¿¡ ÁõÂøµÈ BST ¹Ú¸·ÀÇ Àü±âÀû Ư¼ºÀÇ Â÷ÀÌ¿¡ °üÇÑ ¿¬±¸
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
26 |
¹Úº´°Ç, ¹ÚÀçÈÄ, Á¶¹®ÁÖ, Ȳö¼º CVD ¹æ¹ýÀ¸·Î ÁõÂøµÈ HfO2 ¹Ú¸·ÀÇ Àü±âÀû Ư¼º
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
25 |
Á¶¹®ÁÖ, ¹ÚÀçÈÄ, ¹Úº´°Ç, Ȳö¼º ALD¹æ¹ýÀ¸·Î ÁõÂøÇÑ HfO2 ¹Ú¸·¿¡¼ÀÇ Si È®»ê ¹®Á¦¿¡ ´ëÇÑ °íÂû
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
24 |
¹ÚÀçÈÄ, ¹Úº´°Ç, Á¶¹®ÁÖ, Ȳö¼º CVD·Î ÁõÂøÇÑ gate Àý¿¬¸·¿ë HfO2 ¹Ú¸·ÀÇ ¿Ã³¸® Ư¼º ºÐ¼®
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|
23 |
Sang Yeol Kang, Ha Jin Lim, Cheol Seong Hwang Metallorganic chemical vapor deposition of Ru films using cyclopentadienyl-propylcyclopentadienlylruthenium(II) and oxygen
Á¦3ȸ °íÀ¯Àüü ¹× °À¯Àüü ¼ÒÀÚ/Àç·á workshop, ¼¿ï´ëÇб³, 2001³â 12¿ù 17ÀÏ
|
|