HOME > Research > Facility

Facility

[Deposition] ALD system for MgO, HZO
  • 글쓴이 송해원
  • 작성일 2022-02-16 16:48:31
  • 조회수 147



  • 제작회사 : CN1
  • 모델명 : Atomic Classic
  • 용도 : ZrO2 , HfO2,  MgO, HZO 증착 
  • 특징 :
    - Thermal ALD system
    - Substrate Size: 4 ~ 8 inch wafeter
    - Laminar Gas Flow (Side Gas Flow)
    - Gas delivery System : Bubbler
    - Purge gas : N2 / reactant : O3
  • 담당자 : 김하니, 신종훈
    		•
    목록





    이전글 ALD system for BeO, MgO
    다음글 RTA