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노상용, 박종남, 황철성, 김형준 단일 전구체를 사용한 BST박막의 유기금속 화학증착 한국재료학회, 전남대학교, 2000년 5월 19일, Poster
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박재후, 박병건, 황철성, 김동현, 양철훈, 한근조, 한영기, 양두영, 오기영, 황철주 저온 MOCVD 방법으로 증착한 (Ba,Sr)TiO3 박막의 열처리 조건에 따른 누설전류 전도 기구 한국재료학회, 전남대학교, 2000년 5월 19일
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김혜령, 권오성, 전충배, 황철성, 한영기, 양두영, 오기영, 황철주 액체수송 유기금속 화학증착법(LDS-MOCVD)에 의한 Pb(Zr1-xTix)O3 박막의 저온(400-500℃)증착 및 특성분석 한국재료학회, 전남대학교, 2000년 5월 19일
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H.J.Woo, D.Y.Park, D.S.Lee, S.H.Kim, J.Ha, C.S.Hwang and E.Yoon Study on simple stacked electrode structure for high density ferroelectric memory devices 12th International Symposium on Integrated Ferroelectrics, Aachen, Germany, March 12-15 (2000), Poster
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J.Song, S.Jeong, J.Park and C.S.Hwang Oxidation behavior of TiAlN diffusion barrier layer beneath Pt, Ir and Ru 12th International Symposium on Integrated Ferroelectrics, Aachen, Germany, March 14 (2000), Poster
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J.Song, S.Jeong, J.Park and C.S.Hwang Oxidation behavior of TiAlN diffusion barrier layer beneath Pt, Ir and Ru 12th International Symposium on Integrated Ferroelectrics, Aachen, Germany, March 14 (2000), Poster
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J.Park, C.S.Hwang and D.Y.Yang, C.H.Yang, D.H.Kim, Y.K.Han, C.J.Hwang Electrical structure of (Ba,Sr)TiO3 thin films deposited by low temperature MOCVD 12th International Symposium on Integrated Ferroelectrics, Aachen, Germany, March 14 (2000)
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C.S.Hwang, J.Song, S.Y.Kang, J.Park, H.R.Kim, Y.J.Cho, O.S.Kwon, J.C.Shin, K.H.Choi, S.Y.No, H.J.Kim and D.Y.Yang, C.H.Yang, Y.K.Han, C.J.Hwang The high dielectric and ferroelectric capacitor technologies using all CVD processes 12th International Symposium on Integrated Ferroelectric, Aachen, Germany, March 14 (2000)
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