| 17 |
Byoung Taek Lee, Cheol Seong Hwang Methods of forming floating-gate FFRAM devices 미국, 05940705, 1997. 11. 19.
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| 16 |
Young Soh Park, Sang In Lee, Cheol Seong Hwang, Doo Sup Hwang, Hag Ju Cho Methods of forming integrated circuit capacitors using metal reflow techniques 미국, 06001660, 1997. 11. 13.
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Cheol Seong Hwang, Choon Ho Lee Ferroelectric structure including MgTiO3 passivation 미국, 05834804, 1997. 10. 16.
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Jin Won Kim, Cheol Seong Hwang, Sang In Lee Dual deposition methods for forming contact metallizations, capacitors, and memory devices 미국, 05918118, 1997.09.16.
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| 13 |
Cheol Seong Hwang, Byoung Taek Lee Microelectronic devices including ferroelectric capacitors with lower electrodes extending into contact holes 미국, 06180970, 1997. 08. 12.
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| 12 |
황철성 반도체 메모리 소자의 제조방법 대한민국, 10-0475018, 1997. 12. 22.
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| 11 |
황철성 Method of fabricating capacitor structures for inclusion withinsemiconductor devices 미국, 05696015, 1997. 12. 09.
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황철성 반도체 메모리 장치의 캐패시터 제조 방법 대한민국, 10-0268415, 1997. 10. 01.
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| 9 |
호리이 히데끼, 황철성 도전성 확산장벽층을 사용하는 반도체 장치 제조방법 대한민국, 10-0269310, 1997. 09. 29.
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| 8 |
황철성 백금을 전극으로 사용하는 반도체 장치의 커패시터 대한민국 특허(공개), 1997-24218, 1997. 05. 30.
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