HOME > Board > Free Board

Free Board

5ȸ ³ª³ëÇü»óÈ­ ±³À°°úÁ¤ ¾È³»
  • ±Û¾´ÀÌ °ü¸®ÀÚ
  • ÀÛ¼ºÀÏ 2016-03-30 17:23:17
  • Á¶È¸¼ö 1190
¾È³çÇϼ¼¿ä~°í·Á´ëÇб³ È­°ø»ý¸í°øÇаú Ç¥¸é³ª³ë°øÁ¤¿¬±¸½ÇÀÔ´Ï´Ù.

°í·Á´ëÇб³ °ø°ú´ëÇÐ °øµ¿½ÇÇè½Ç¿¡¼­ °øÁ¤ Àåºñ ´ã´ç ¿¬±¸½Çµé°ú ÇÔ²² "5ȸ ³ª³ëÇü»óÈ­ ±³À°"À» ÁغñÇÏ¿´½À´Ï´Ù. ±³À°³»¿ëÀº E-beam lithography, Photo lithography, RIE(Reactive Ion Etching), E-beam evaporator, XRD(X-Ray Diffraction), AFM, Optic profiler°¡ ÁÖ¿ä°ú¸ñÀ¸·Î ÁøÇàµË´Ï´Ù. Àåºñ »ç¿ë¿¡ ´É¼÷ÇÑ ´ëÇпø»ýÀÌ ±³À°À» ÁøÇàÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ¸ç ±³À° ¼ö°­ ÈÄ¿¡´Â ±³À°¹ÞÀº Àåºñ¿¡ ´ëÇÏ¿© À¯Àú ÀÚ°ÝÀ» ºÎ¿©ÇÕ´Ï´Ù. ±³À° ±â°£Àº 2009³â 2¿ù 9ÀϺÎÅÍ ¾à 5ÀÏ°£ÀÌ¸ç ¿ÀÀü ¿ÀÈÄ ±³À°À¸·Î ÁøÇàµË´Ï´Ù. °ü½ÉÀÖ´Â °ú¸ñº°·Î ½ÅûÇÏ½Ç ¼ö ÀÖÀ¸¸ç ½Åû±â°£Àº 2009³â 1¿ù 30ÀÏ(±Ý)±îÁöÀÔ´Ï´Ù. ±³À°ºñ´Â °ú¸ñ´ç 1¸¸¿ø ÀÔ´Ï´Ù.^^

½Åû ¹æ¹ý : À̸ÞÀÏ Á¢¼ö - À±Àå¿­ (jjangyeul@korea.ac.kr)
½Åû ¾ç½Ä : 
    ¸ÞÀÏÁ¦¸ñ: [³ª³ëÇü»óÈ­] Çб³, ½ÅûÀÚ ¼ºÇÔ
    ¸ÞÀϳ»¿ë:
          Çб³, Àü°ø, ¿¬±¸½Ç, ±³¼ö´Ô ¼ºÇÔ, 
          ½ÅûÀÚ ¼ºÇÔ, ½ÅûÀÚ À̸ÞÀÏ, ½ÅûÀÚ ¿¬¶ôó, 
          ½Åû °ú¸ñ (¿øÇÏ´Â Ç׸ñ¿¡ 'O' üũ)
          Photo lithography (  )
          E-beam lithography (  )
          Reactive ion etching (  )
          E-beam evaporator (  )
          X-ray diffraction (  )
          Atomic force microscopy (  )
                  Optic profiler (  )
                  (ÇкλýÀÇ °æ¿ì´Â ±³¼ö´Ô ÃßõÀÌ ÇÊ¿äÇÕ´Ï´Ù.)

±³À°ºñ ³³ºÎ´Â ÇöÀå³³ºÎÀÌ¸ç °í·Á´ëÇб³ ÇлýÀº Çг» °øµ¿¿¬±¸½Ç ¿¬±¸ºñ ó¸® ¹æ½ÄÀ¸·Î ÇÏ¸ç °í·Á´ëÇб³ ¿Ü ÇлýÀº ¿¬±¸ºñ °ü·Ã »ç¾÷ÀÚµî·ÏÁõ °¡Á®¿À½Ã¸é °è»ê¼­ ¹ßÇàÇص帳´Ï´Ù.

Photo ¹× E-beam lithography¸¦ ÅëÇÑ ÆÐÅÏÇü¼º, RIE¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ¿¡Äª, E-beam evaporator¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ÁõÂøÀº ³ª³ë¼ÒÀÚÀÇ Á¦ÀÛ, ³ª³ë±¸Á¶ Á¦ÀÛ ¿¬±¸ µî¿¡ À־ ÇʼöÀûÀÎ ±â¼úÀÔ´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ XRD, AFMÀº Á¦ÀÛµÈ ³ª³ë¼ÒÀÚ ¹× ±¸Á¶ÀÇ °ËÁõ¿¡ ²À ÇÊ¿äÇÑ ±â¼úµéÀÔ´Ï´Ù. À̹ø ±³À°À» ÅëÇؼ­ ³ª³ë¼ÒÀÚÀÇ Á¦ÀÛ ¹× °ËÁõÀ» À§ÇÑ Àü¹ÝÀûÀÎ ±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ ±³À°À» ¹ÞÀ¸½Ç ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.

¸¹Àº ½Åû ¹Ù¶ø´Ï´Ù..

¹®ÀÇÀüÈ­: 02-3290-3724
homepage: http://elc.korea.ac.kr & http://surfnano.korea.ac.kr 
¸ñ·Ï





ÀÌÀü±Û ½Ì°¡Æú¿¡¼­.. »õÇØÀλç
´ÙÀ½±Û ºÒÆíÀ» µå·Á Á˼ÛÇÕ´Ï´Ù ¹Ì·¡±â¼ú(Throttle&Pump)Àλçµå¸³´Ï´Ù.