¾È³çÇϼ¼¿ä~°í·Á´ëÇб³ È°ø»ý¸í°øÇаú Ç¥¸é³ª³ë°øÁ¤¿¬±¸½ÇÀÔ´Ï´Ù.°í·Á´ëÇб³ °ø°ú´ëÇÐ °øµ¿½ÇÇè½Ç¿¡¼ °øÁ¤ Àåºñ ´ã´ç ¿¬±¸½Çµé°ú ÇÔ²² "5ȸ ³ª³ëÇü»óÈ ±³À°"À» ÁغñÇÏ¿´½À´Ï´Ù. ±³À°³»¿ëÀº E-beam lithography, Photo lithography, RIE(Reactive Ion Etching), E-beam evaporator, XRD(X-Ray Diffraction), AFM, Optic profiler°¡ ÁÖ¿ä°ú¸ñÀ¸·Î ÁøÇàµË´Ï´Ù. Àåºñ »ç¿ë¿¡ ´É¼÷ÇÑ ´ëÇпø»ýÀÌ ±³À°À» ÁøÇàÇÒ ¿¹Á¤ÀÌ¸ç ±³À° ¼ö° ÈÄ¿¡´Â ±³À°¹ÞÀº Àåºñ¿¡ ´ëÇÏ¿© À¯Àú ÀÚ°ÝÀ» ºÎ¿©ÇÕ´Ï´Ù. ±³À° ±â°£Àº 2009³â 2¿ù 9ÀϺÎÅÍ ¾à 5ÀÏ°£ÀÌ¸ç ¿ÀÀü ¿ÀÈÄ ±³À°À¸·Î ÁøÇàµË´Ï´Ù. °ü½ÉÀÖ´Â °ú¸ñº°·Î ½ÅûÇÏ½Ç ¼ö ÀÖÀ¸¸ç ½Åû±â°£Àº 2009³â 1¿ù 30ÀÏ(±Ý)±îÁöÀÔ´Ï´Ù. ±³À°ºñ´Â °ú¸ñ´ç 1¸¸¿ø ÀÔ´Ï´Ù.^^½Åû ¹æ¹ý : À̸ÞÀÏ Á¢¼ö - À±Àå¿ (jjangyeul@korea.ac.kr)½Åû ¾ç½Ä : ¸ÞÀÏÁ¦¸ñ: [³ª³ëÇü»óÈ] Çб³, ½ÅûÀÚ ¼ºÇÔ ¸ÞÀϳ»¿ë: Çб³, Àü°ø, ¿¬±¸½Ç, ±³¼ö´Ô ¼ºÇÔ, ½ÅûÀÚ ¼ºÇÔ, ½ÅûÀÚ À̸ÞÀÏ, ½ÅûÀÚ ¿¬¶ôó, ½Åû °ú¸ñ (¿øÇÏ´Â Ç׸ñ¿¡ 'O' üũ) Photo lithography ( ) E-beam lithography ( ) Reactive ion etching ( ) E-beam evaporator ( ) X-ray diffraction ( ) Atomic force microscopy ( ) Optic profiler ( ) (ÇкλýÀÇ °æ¿ì´Â ±³¼ö´Ô ÃßõÀÌ ÇÊ¿äÇÕ´Ï´Ù.)±³À°ºñ ³³ºÎ´Â ÇöÀå³³ºÎÀÌ¸ç °í·Á´ëÇб³ ÇлýÀº Çг» °øµ¿¿¬±¸½Ç ¿¬±¸ºñ ó¸® ¹æ½ÄÀ¸·Î ÇÏ¸ç °í·Á´ëÇб³ ¿Ü ÇлýÀº ¿¬±¸ºñ °ü·Ã »ç¾÷ÀÚµî·ÏÁõ °¡Á®¿À½Ã¸é °è»ê¼ ¹ßÇàÇص帳´Ï´Ù.Photo ¹× E-beam lithography¸¦ ÅëÇÑ ÆÐÅÏÇü¼º, RIE¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ¿¡Äª, E-beam evaporator¸¦ ÀÌ¿ëÇÑ ±Ý¼Ó ÁõÂøÀº ³ª³ë¼ÒÀÚÀÇ Á¦ÀÛ, ³ª³ë±¸Á¶ Á¦ÀÛ ¿¬±¸ µî¿¡ ÀÖ¾î¼ ÇʼöÀûÀÎ ±â¼úÀÔ´Ï´Ù. ¶ÇÇÑ XRD, AFMÀº Á¦ÀÛµÈ ³ª³ë¼ÒÀÚ ¹× ±¸Á¶ÀÇ °ËÁõ¿¡ ²À ÇÊ¿äÇÑ ±â¼úµéÀÔ´Ï´Ù. À̹ø ±³À°À» ÅëÇؼ ³ª³ë¼ÒÀÚÀÇ Á¦ÀÛ ¹× °ËÁõÀ» À§ÇÑ Àü¹ÝÀûÀÎ ±â¼ú¿¡ ´ëÇÑ ±³À°À» ¹ÞÀ¸½Ç ¼ö ÀÖ½À´Ï´Ù.¸¹Àº ½Åû ¹Ù¶ø´Ï´Ù..¹®ÀÇÀüÈ: 02-3290-3724homepage: http://elc.korea.ac.kr & http://surfnano.korea.ac.kr
|
|