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[Deposition] ALD system for HfO2, Al2O3,ZrO2 & HfSiOx
  • 글쓴이 권대선
  • 작성일 2016-03-29 10:33:57
  • 조회수 2646





  • 제작회사 : Quros
  • 모델명 : PLUS200
  • 용도 : HfO2, Al2O3,ZrO2 & HfSiOx 증착
  • 특징 :
    - Thermal ALD system
    - 8” size chamber 2EA (standard 4, 6, 8” available)
    - Si, Ge, GaAs substrate
    - HfO2, Al2O3, ZrO2, HfSiOx 
    - Ozone Generator ~350 g/m3
  • 담당자 : 변승용, 백인경
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